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簡要描述：Eksma 立方體偏振分束器偏振片鍍在立方分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度，該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。立方體偏振分光鏡可以針對特定波長進行優(yōu)化，以為激光應用提供優(yōu)良的性能。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-24訪 問 量：1149相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 立方體偏振分束器
偏振片鍍在立方體分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度，該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。
Eksma 立方體偏振分束器
產(chǎn)品介紹
Ø耐用方便
Ø針對流行的激光波長進行了優(yōu)化
偏振片鍍在立方分光鏡的內(nèi)表面。薄膜偏振片利用偏振角度，該偏振角度發(fā)生在偏離90°角的反射上。立方體偏振分光鏡可以針對特定波長進行優(yōu)化，以為激光應用提供優(yōu)良的性能。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
BK7, unmounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0101 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0101-M2Ps | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0104 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0104-M2Ps | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0102 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0102-M2Ps | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0103 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-0103-M2Ps | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
UVFS, unmounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1103 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1103-M2Ps | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153-M2P | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203-M2P | 280 nm | Rs>99 | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1105 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1105-M2Ps | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1107 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射（S-POL） | 透射（P-POL） | 尺寸 |
430-1107-M2Ps | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
材料 | BK7, UV FS |
表面質(zhì)量 | 40-20表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
表面平整度 | λ/4 @ 633 nm |
通光孔徑 | 90% of the face size |
光束偏差 | <3 arcmin |
尺寸公差 | ±0.3 mm |
激光損傷閾值 | 0.3 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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